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公众号：zyzhan
产品简介
【无锡冠亚】物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置，应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制，尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置，用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。
产品描述
无锡冠亚制冷加热控温系统的典型应用：
高压反应釜冷热源动态恒温控制、
双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、
双层反应釜冷热源动态恒温控制、
微通道反应器冷热源恒温控制；
小型恒温控制系统、
蒸馏系统控温、
材料低温高温老化测试、
组合化学冷源热源恒温控制、
半导体设备冷却加热、
真空室制冷加热恒温控制。
| 型号 | SUNDI-320 | SUNDI-420W | SUNDI-430W | |
|---|---|---|---|---|
| 介质温度范围 | -30℃～180℃ | -40℃～180℃ | -40℃～200℃ | |
| 控制系统 | 前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器 | |||
| 温控模式选择 | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 | |||
| 温差控制 | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 | |||
| 程序编辑 | 可编制5条程序，每条程序可编制40段步骤 | |||
| 通信协议 | MODBUS RTU 协议 RS 485接口 | |||
| 物料温度反馈 | PT100 | |||
| 温度反馈 | 设备进口温度、设备出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度 | |||
| 导热介质温控精度 | ±0.5℃ | |||
| 反应物料温控精度 | ±1℃ | |||
| 加热功率 | 2KW | 2KW | 3KW | |
| 制冷能力 | 180℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW |
| 50℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW | |
| 0℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW | |
| -5℃ | 0.9kW | 1.2kW | 2kW | |
| -20℃ | 0.6kW | 1kW | 1.5kW | |
| -35℃ | 0.3kW | 0.5kW | ||
| 循环泵流量、压力 | max10L/min 0.8bar | max10L/min 0.8bar | max20L/min 2bar | |
| 压缩机 | 海立/泰康/思科普 | |||
| 膨胀阀 | 丹佛斯/艾默生热力膨胀阀 | |||
| 蒸发器 | 丹佛斯/高力板式换热器 | |||
| 操作面板 | 7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录 | |||
| 安全防护 | 具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 | |||
| 密闭循环系统 | 整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。 | |||
| 制冷剂 | R-404A/R507C | |||
| 接口尺寸 | G1/2 | G1/2 | G1/2 | |
| 水冷型 W 温度 20度 | 450L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 550L/H 1.5bar~4bar G3/8 | ||
| 外型尺寸 cm | 45*65*87 | 45*65*87 | 45*65*120 | |
| 正压防爆尺寸 | 70*75*121.5 | 70*75*121.5 | ||
| 标配重量 | 55kg | 55kg | 85kg | |
| 电源 | AC 220V 50HZ 2.9kW（max) | AC 220V 50HZ 3.3kW（max) | AC380V 50HZ 4.5kW（max) | |
| 外壳材质 | SUS 304 | SUS 304 | SUS 304 | |
| 选配 | 正压防爆 后缀加PEX | |||
| 选配 | 可选配以太网接口，配置电脑操作软件 | |||
| 选配 | 选配外置触摸屏控制器，通信线距离10M | |||
| 选配电源 | 100V 50HZ单相，110V 60HZ 单相，230V 60HZ 单相， 220V 60HZ 三相，440V～460V 60HZ 三相 | |||
物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置
物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置
随着科技的不断进步，半导体行业制程工艺过程中，高低温控温设备扮演着一定的角色。本文将探讨半导体行业用高低温控温设备在该行业的应用。
一、高低温控温设备的重要性
在半导体生产过程中，许多工艺步骤需要在特定的温度环境下进行。例如，某些材料的生长、薄膜的沉积、晶圆的蚀刻等过程都需要准确控制温度。过高或过低的温度都可能导致产品质量下降，甚至导致生产失败。因此，高低温控温设备对于保证半导体生产过程的稳定性和产品质量至关重要。
二、高低温控温设备的应用
1、生长和沉积过程：在半导体材料的生长和薄膜的沉积过程中，需要准确控制温度以保证材料的结构和性能。高低温控温设备能够提供稳定的温度环境，从而确保这些过程的顺利进行。
2、晶圆蚀刻：晶圆蚀刻是半导体制造过程中的步骤之一。在这个过程中，需要准确控制温度以保证蚀刻剂的活性和蚀刻速率。高低温控温设备能够满足这一需求，从而确保晶圆蚀刻的质量和效率。
3、测试和封装：在半导体产品的测试和封装过程中，也需要准确控制温度。高低温控温设备能够提供各种测试所需的温度环境，从而确保产品的性能和可靠性。
总之，高低温控温设备为半导体生产提供了稳定的温度环境，从而保证了生产过程的稳定性和产品质量。
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